钛靶分为溅射 / 多弧钛靶，以纯钛、钛合金加工成型，致密度高、晶粒均匀，依靠溅射沉积钛薄膜；附着力优良、耐腐蚀、导电稳定，广泛用于装饰镀膜、光伏、光学玻璃、半导体、电子元器件、医疗器械涂层。形状可定制平板靶、圆靶、管靶。

一、材质牌号

工业纯钛

TA0、TA1、TA2

钛合金

TA9、TA10、TC4、TC4ELI

二、执行标准

国内标准

GB/T 38976-2020《钛及钛合金溅射靶材》

GB/T 3620.1-2016《钛及钛合*号和化学成分》

YS/T 1497-2021《高纯钛靶材》

国际标准

ASTM B348